Venta en caliente Niv7 objetivo Niv7wt% Metal níquel vanadio Rotary esputtering objetivo Para el proceso PVD

Garantía: dentro de los 30 días posteriores al envío
Condición: Nuevo
Proceso de dar un título: ISO 9001
Personalizado: Personalizado
Material: aleación de metal de vanadio de níquel
Solicitud: metalurgia, industria, experimentos, bricolaje.

Products Details

  • Visión General
  • Descripción del producto
  • Información de la empresa
Visión General

Información Básica.

No. de Modelo.
XK-NiV
uso
revestimiento de película pvd
forma
rotatoria,placa,círculo,pellets
tiempo de entrega
7-21days
palabras clave
aleación de cromo de níquel metálico
porcentaje
niv7wt%
tamaño
d50.8x3mm o como pedido
pureza
99,9%-99,99%
composición química
niv7wt%
apariencia
superficie pulida
moq
1pc
nombre del producto
objetivo rotativo de aleación de vanadio de níquel
paquete
ampolla de vacío
Paquete de Transporte
Vacuum Sealed Package Inside
Marca Comercial
XinKang
Origen
Hunan, China
Capacidad de Producción
1000000 Piece/Pieces Per Month

Descripción de Producto

Descripción del producto

 

XinKang Hot Sale NiV7 Target NiV7wt% Metal níquel vanadio Rotary Destino de pulverización para el proceso PVD Hot-Sale Niv7 Target Niv7wt% Metal Nickel Vanadium Rotary Sputtering Target for PVD Process

Nombre   Blancos de esputo de aleación de vanadio de níquel metálico  
Pureza 99,9%-99,99%
Tamaño D50,8 x 3 mm, D76,2 x 6 mm, 2inch, 3inch, a petición
 Ni punto de ebullición 2732
 Densidad de ni 8,9g/cm³
 Ni punto de fusión 1453,0
Forma Blanco plano, blanco rotatorio.
MOQ 1PCS
Aplicación Materiales de evaporación, revestimiento de película PVD, etc.

Hot-Sale Niv7 Target Niv7wt% Metal Nickel Vanadium Rotary Sputtering Target for PVD Process

Proceso de preparación de blanco de esputo de aleación de níquel-vanadio
 
Preparación de material - fusión por inducción al vacío - Análisis químico - Forja - Rolling - Annealing - Inspección metalográfica - Mecanizado - Inspección dimensional - Limpieza - Inspección final - Embalaje
 
En la fabricación de circuitos integrados, el oro puro se utiliza generalmente como metal de interconexión, depositado en una oblea de silicio, pero el oro se difundiría en la oblea de silicio para formar un compuesto AuSi de alta resistencia, lo que reducirá en gran medida la densidad de corriente en el cableado, lo que dará lugar a la falla de todo el sistema de cableado.
 
Por lo tanto, se propone añadir una capa adhesiva entre la película fina de oro y las obleas de silicio. La capa adhesiva suele estar hecha de níquel puro, pero también se produce difusión entre la capa de níquel y la capa conductora de oro, por lo que se necesita una capa de barrera para evitar la difusión entre la capa conductora de oro y la capa adhesiva de níquel.
 
Con un alto punto de fusión y una gran densidad de corriente, el vanadio es elegido para depositar la capa de barrera, por lo tanto, objetivo de esputo de níquel, objetivo de esputo de vanadio, objetivo de esputo de oro se utilizan en la fabricación de circuitos integrados.
Los objetivos de esputo NIV de vanadio de níquel que contienen 7% de vanadio tienen ventajas tanto de níquel como de vanadio, por lo que la capa adhesiva y la capa de barrera pueden lograrse a la vez. La aleación de NIV es material no magnético, que es conducente a la pulverización de magnetrón. En la industria de la información electrónica, está reemplazando gradualmente a objetivos de esputo de níquel puro.
La imagen a continuación son dos micrográficos de nuestro objetivo de pulverización de aleación NIV(93/7%), el tamaño promedio de grano<100μm.
A continuación se presenta un Certificado de análisis para el objetivo de pulverización del 97/3WT% de 3N5 NIV.  
 
 

 

Otros objetivos relacionados con el espionaje

Objetivo de metal  Ni,al,Cu,V,Co,W,Mo,ta,Nb,Cr,ti,ZR,HF,mg,Fe,Zn,Pb,Sn,Bi,GA,GE,in,Si,C,B,Te y blancos de tierras raras
Objetivo de aleación Aleación de ni,Fe,Co,Cu,al y aleación especial  
Materiales de evaporación Ni,al,Cu,V,Co,W,Mo,ta,Nb,Cr,ti,ZR,HF,mg,Fe,Zn,Pb,Sn,Bi,GA,GE,in,Si,C,B,Te y etc
Objetivos cerámicos Óxido Ceramic, compuestos ceramicos objetivos.
 
Información de la empresa

 Hot-Sale Niv7 Target Niv7wt% Metal Nickel Vanadium Rotary Sputtering Target for PVD Process

Hot-Sale Niv7 Target Niv7wt% Metal Nickel Vanadium Rotary Sputtering Target for PVD Process

 

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