Chiller adecuado para la oblea de silicio PVD de deposición de Vapor física

Servicio postventa: 1 años
Garantía: 1 años
Solicitud: Industria, Colegio, Hospital, Laboratorio
personalizado: personalizado
Proceso de dar un título: CE, ISO
Estructura: Portátil

Products Details

Información Básica.

No. de Modelo.
H Series
Material
Acero inoxidable
Tipo
Refrigerador
capacidad de refrigeración
800-7200 W
rango de temperatura
5-35
precisión de temperatura
+/-0,2
modo de control de temperatura
pid
depósito
120 l
tamaño de la conexión
rp1 o 1/2
condición
nuevo
Paquete de Transporte
Pallet or Carton
Especificación
620*1260*1162
Marca Comercial
WIIP
Origen
China
Código del HS
8418692090
Capacidad de Producción
50000

Descripción de Producto

Introducción al producto
Herii (H) de la enfriadora de la serie está diseñada con una configuración completa, perfecta protección, sistema de alerta, especialmente para instrumentos analíticos de alta gama. Por equipado con el estándar de la  función de purificación de agua, protección de la alarma de flujo de agua, nivel y se sobrecaliente.  Herii (H) es capaz de proporcionar  comunicaciones RS485 y la equiparación de los equipos con abundante comunicación instrucciones.

Funciones y características
Control de temperatura PID inteligente con una alta estabilidad.
Diseño de aspecto vertical con una bella forma, el ahorro de espacio.
Depósito de agua de acero inoxidable con gran apertura, fácil de limpiar.
  Filtro frontal observados optimizado, fácil de observar y sustituir el filtro.
Varios de bajo ruido y alto rendimiento.
Opcional RS232/485 comunicaciones.


Aplicación típica
Herii (H) de la enfriadora de la serie se utiliza principalmente para apoyar el espectrofotómetro de absorción atómica (AAS), Plasma Acoplado Inductivamente de espectrometría de emisión óptica (ICP-OES), la espectrometría de masas de plasma inductivamente acoplado (ICP-MS), Microscopía Electrónica de Barrido, alta frecuencia de la máquina de fusión, la guantera, Plasma aguafuerte la máquina, el espectrómetro, Aemission Kjeldah espectrómetro, Aparatos, Evaporador rotativo, una pequeña reacción hervidor de agua y otros instrumentos de laboratorio láser de laboratorio, etc..

Especificaciones del producto

 

El modelo

La capacidad de refrigeración W@25º C.  

Capacidad de calefacción

El rango de temperatura

Estabilidad de temperatura

Flujo máximo

Max.
La presión

El depósito

El tamaño de la Unión

Dimensión Global

W*D*H

 ºC 50/60 Hz

 ºC 50/60 Hz

 °C.

 °C.

L/min.

Bar

L

Mm

SH1

800/900

300/350

5-35ºC

±0.1ºC

20

1.7

5

Rp 1/2

280x435x640-60

SH2

1400/1600

400

5-35ºC

20

1.7

8

Rp 1/2

330x505x710-60

SH3

2600/3000

810/1030

5-35ºC

50

3.6

12

Rp 1/2

380x565x830-60

SH4

3600

900

5-35ºC

50

3.6

20

Rp 1/2

430x635x940-70

SH5

5600/6500

1460

5-35ºC

50

4.6

30

Rp 1/2

490x715x995-70

SH6

6400/7200

1660/1880

5-35ºC

50

4.6

46

Rp 1/2

540x780x1115-90

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

SH1β

700/800

300/350

-20-35°C.

±0.2ºC

20

1.7

5

Rp 1/2

280x435x640-60

SH2β

1200/1350

400

-20-35°C.

20

1.7

8

Rp 1/2

330x505x710-60

SH3β

2200/2600

810/1030

-20-35°C.

50

3.6

12

Rp 1/2

380x565x830-60

SH4β

3300

900

-20-35°C.

50

3.6

20

Rp 1/2

430x635x940-70

SH5β

5200/5800

1460

-20-35°C.

50

4.6

30

Rp 1/2

490x715x995-70

SH6β

6000/6600

1660/1880

-20-35°C.

50

4.6

46

Rp 1/2

540x780x1115-90

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

RH1

800/900

100

5-35ºC

±1°C.

20

1.7

5

Rp 1/2

280x435x640-60

RH2

1400/1600

100

5-35ºC

20

1.7

8

Rp 1/2

330x505x710-60

RH3

2600/3000

250

5-35ºC

50

3.6

12

Rp 1/2

380x565x830-60

RH4

3600

250

5-35ºC

50

3.6

20

Rp 1/2

430x635x940-70

RH5

5600/6500

250

5-35ºC

50

4.6

30

Rp 1/2

490x715x995-70

RH6

6400/7200

250

5-35ºC

50

4.6

46

Rp 1/2

540x780x1115-90

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

SH1s

800/900

300/350

5-35ºC

±0.2ºC

20

1.7

Motor 2.5L

Rp 1/2

280x435x640-60

SH2s

1400/1600

400

5-35ºC

20

1.7

Motor 2.5L

Rp 1/2

330x505x710-60

SH3s

2600/3000

810/1030

5-35ºC

50

3.6

Motor 2.5L

Rp 1/2

380x565x830-60

SH4s

3600

900

5-35ºC

50

3.6

4L

Rp 1/2

430x635x940-70

SH5s

5600/6500

1460

5-35ºC

50

4.6

6L

Rp 1/2

490x715x995-70

SH6s

6400/7200

1660/1880

5-35ºC

50

4.6

8L

Rp 1/2

540x780x1115-90

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

SH2γ

900

550

-40-35°C.

±0.2ºC

10

1.5

Motor 2.5L

Rp 1/2

330x505x710-60

SH3γ

1200

800

-40-35°C.

20

3.5

Motor 2.5L

Rp 1/2

380x565x830-60

SH4γ

1800

1000

-40-35°C.

20

3.5

4L

Rp 1/2

430x635x940-70

SH5γ

2600

1280

-40-35°C.

20

3.5

6L

Rp 1/2

490x715x995-70

SH6γ

3600

1700

-40-35°C.

20

3.5

8L

Rp 1/2

540x780x1115-90


Chiller Suitable for Silicon Wafer PVD Physical Vapor DepositionChiller Suitable for Silicon Wafer PVD Physical Vapor DepositionChiller Suitable for Silicon Wafer PVD Physical Vapor DepositionChiller Suitable for Silicon Wafer PVD Physical Vapor DepositionChiller Suitable for Silicon Wafer PVD Physical Vapor DepositionChiller Suitable for Silicon Wafer PVD Physical Vapor DepositionChiller Suitable for Silicon Wafer PVD Physical Vapor DepositionChiller Suitable for Silicon Wafer PVD Physical Vapor DepositionChiller Suitable for Silicon Wafer PVD Physical Vapor Deposition

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