Alta pureza 99,95% Metal Tantalum Rotary Target ta Tantalum Magnetron Objetivos que se están espitando

Garantía: dentro de los 30 días posteriores al envío
Condición: Nuevo
Proceso de dar un título: RoHS, ISO 9001
Material: puro tantalio
Solicitud: revestimiento óptico de película fina
no cas: 7440-25-7

Products Details

  • Visión General
  • Descripción del producto
  • Información de la empresa
  • PREGUNTAS FRECUENTES
Visión General

Información Básica.

No. de Modelo.
XK-Ta
uso
revestimiento de película pvd
forma
redondo
tiempo de entrega
7-21days
palabras clave
materiales de tántalo metálico
tamaño
a petición
pureza
99.9-99.95%
composición química
ta
apariencia
superficie pulida
moq
1pc
nombre del producto
objetivos de metal de tantalio
paquete
ampolla de vacío
Paquete de Transporte
Vacuum Sealed Package Inside
Especificación
customized
Marca Comercial
XinKang
Origen
Hunan, China
Capacidad de Producción
1000000 Piece/Pieces Per Month

Descripción de Producto

Descripción del producto

 

Precio de fábrica Alta pureza 99,95% Tantalum metálico Rotary Target ta Objetivos de espumación de magnetrón de tántalo para recubrimiento pvd

Nombre Blanco de  espumación de Tantalum ta magnetrón metálico  
Pureza 99,9%-99,995%
Tamaño 372 x 74 x 6 mm, D3 x 3 mm, D6 x 6 mm, D50,8 x 3 mm, 2inch,3inch, a petición
Punto de ebullición 54257
Densidad 16,654g/cm³
Punto de fusión 2996,0
Forma Blanco plano, blanco giratorio, cátodo de arco.
MOQ 1PCS
Aplicación Materiales de evaporación, revestimiento de película PVD, etc.

 

El tantalio, un elemento metálico, que se produce principalmente en el tantalita y se asocia con el niobio. El tantalio tiene una dureza moderada y buena ductilidad, y puede ser arrastrado en una lámina de alambre fina. Es un pequeño Coeficiente de expansión térmica. El tantalio tiene una excelente propiedad química y es muy resistente a la corrosión. Aunque el tantalio es muy resistente a la corrosión, su resistencia a la corrosión se debe a la formación de una película protectora de pentóxido de tantalio estable (TA2O5) en su superficie. No reacciona con ácido clorhídrico, ácido nítrico concentrado o "Aqua regia" en condiciones frías y calientes. Puede usarse para hacer evaporador y así sucesivamente. También puede usarse como electrodo de tubo de electrones, rectificador y condensador electrolítico. Se usa médicamente para hacer hojas o hilos para coser el tejido dañado.

 

High Purity 99.95% Metal Tantalum Rotary Target Ta Tantalum Magnetron Sputtering Targets

Los condensadores son el uso más importante de tantalio.

El tántalo también se utiliza para fabricar tubos de emisión de electrones y piezas de tubos de electrones de alta potencia. El equipo resistente a la corrosión de tantalio se utiliza en la producción de ácido fuerte, bromo, amoníaco y otras industrias químicas.

El tantalio puede usarse como material estructural para el combustor de los motores de aeronaves. Las aleaciones de tantalio-tungsteno, tantalio-tungsteno-hafnio y tantalio-hafnio se utilizan como materiales resistentes al calor y de alta resistencia para cohetes, misiles y motores de reacción, y como componentes en equipos de control y acondicionamiento.

El tantalio es fácil de mecanizar y dar forma. Se utiliza como accesorio de soporte, protector térmico, calentador y disipador de calor en horno de vacío de alta temperatura.

El tantalio puede usarse como material ortopédico y quirúrgico.

El carburo de tantalio se utiliza para fabricar el carburo cementado.

El boruro de tantalio, el silicidio, el nitruro y sus aleaciones se utilizan como elementos de liberación de calor y materiales de revestimiento de metal líquido en la industria de la energía atómica.

El óxido de tantalio se utiliza en la fabricación de gafas ópticas y catalizadores avanzados.

 

Aplicación:  Objetivos de esputo de tantalio

High Purity 99.95% Metal Tantalum Rotary Target Ta Tantalum Magnetron Sputtering Targets

Otros objetivos relacionados con el espionaje

Objetivo de metal  Ni,al,Cu,V,Co,W,Mo,ta,Nb,Cr,ti,ZR,HF,mg,Fe,Zn,Pb,Sn,Bi,GA,GE,in,Si,C,B,Te y blancos de tierras raras
Objetivo de aleación Aleación de ni,Fe,Co,Cu,al y aleación especial  
Materiales de evaporación Ni,al,Cu,V,Co,W,Mo,ta,Nb,Cr,ti,ZR,HF,mg,Fe,Zn,Pb,Sn,Bi,GA,GE,in,Si,C,B,Te y etc
Objetivos cerámicos Óxido Ceramic, compuestos ceramicos objetivos.
   High Purity 99.95% Metal Tantalum Rotary Target Ta Tantalum Magnetron Sputtering Targets
Información de la empresa

 High Purity 99.95% Metal Tantalum Rotary Target Ta Tantalum Magnetron Sputtering Targets

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PREGUNTAS FRECUENTES

 

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