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Información Básica.
Descripción de Producto
XinKang Hot Sale Sn Tin esputtering Target 99,99% PURITY Metal Tin Magnetron Target para experimentos de evaporación de recubrimiento de película fina óptica
| Nombre | Blancos de esputo de estaño metálico |
| Pureza | 99,9%-99,99% |
| Tamaño | 1-10mm,10x10x10 mm,D3x3 mm, D6x6 mm,2inch,3inch, a petición |
| Símbolo | N.o de serie |
| Densidad | 7,29g/cm³ |
| Punto de fusión | 232 |
| Forma | Blanco planar, blanco rotario.Pellets, pieza, |
| MOQ | 1KGS |
| Aplicación | Materiales de experimentos, materiales de evaporación, recubrimiento de película PVD, etc. |
Aplicación de un objetivo de pulverización de estaño
El objetivo de la pulverización de estaño de Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd. Está ingeniosamente diseñado para la deposición de película fina de alta precisión. Este versátil producto se emplea en una gran variedad de sectores, como pilas de combustible, revestimientos decorativos, semiconductores, displays, LED, dispositivos fotovoltaicos y revestimientos de vidrio. Más allá de las películas delgadas, las propiedades anticorrosivas del estaño lo hacen invaluable en el recubrimiento de otros metales. Además, las aleaciones de estaño, como las que se encuentran en soldadura blanda, bronce y bronce fosforado, desempeñan un papel crucial en la tecnología moderna. Un ejemplo notable es la aleación de niobio-estaño, esencial para la fabricación de imanes superconductores.
A continuación se muestra un Certificado típico de Análisis para nuestro objetivo de esputo de estaño 4N.
Métodos analíticos:
1. Los elementos metálicos se analizaron con precisión mediante ICP-OES;
2. Los elementos gaseosos se sometieron a un análisis exhaustivo con LECO.
Aplicación: Estaño Metal materiales:
Otros objetivos relacionados con el espionaje
| Objetivo de metal | Ni,al,Cu,V,Co,W,Mo,ta,Nb,Cr,ti,ZR,HF,mg,Fe,Zn,Pb,Sn,Bi,GA,GE,in,Si,C,B,Te y blancos de tierras raras |
| Objetivo de aleación | Aleación de ni,Fe,Co,Cu,al y aleación especial |
| Materiales de evaporación | Ni,al,Cu,V,Co,W,Mo,ta,Nb,Cr,ti,ZR,HF,mg,Fe,Zn,Pb,Sn,Bi,GA,GE,in,Si,C,B,Te y etc |
| Objetivos cerámicos | Óxido Ceramic, compuestos ceramicos objetivos. |
