99,95% pureza Cr esputo de cromo Blanco de cromo Blanco de cromo para Revestimiento de película PVD

Garantía: dentro de los 30 días posteriores al envío
Condición: Nuevo
Proceso de dar un título: ISO 9001
Personalizado: Personalizado
Material: cromo puro
Solicitud: metalurgia,semiconductor,evaporación

Products Details

  • Visión General
  • Descripción del producto
  • Información de la empresa
  • PREGUNTAS FRECUENTES
Visión General

Información Básica.

No. de Modelo.
XK-Cr 01
no cas
7440-47-3
uso
revestimiento de película pvd
forma
placa,círculo,pellets
tiempo de entrega
7-21days
palabras clave
metalurgia del cromo metálico
tamaño
d50.8x3mm o como pedido
pureza
99.9-99.95%
composición química
cr
apariencia
superficie pulida
moq
1pcs
nombre del producto
cromo metal objetivo
paquete
ampolla de vacío
Paquete de Transporte
Vacuum Sealed Package Inside
Marca Comercial
XinKang
Origen
Hunan, China
Capacidad de Producción
1000000 Piece/Pieces Per Month

Descripción de Producto

Descripción del producto

 

XinKang Hot Sale Metal cromo objetivo 99,95% pureza Cr cromo Objetivo de espumación para recubrimiento de película PVD para experimentos de evaporación

99.95% Purity Cr Chromium Sputtering Target Metal Chromium Target for PVD Film Coating

Nombre   Objetivos de cromo metálico
Pureza 99,9%-99,95%
Tamaño D50,8x3mm,2inch,3inch, a petición
Símbolo CR
Densidad 7,19g/cm³
Punto de fusión 1857
Forma Blanco planar, blanco rotario.Pellets, pieza,
MOQ 1PCS
Aplicación Materiales de experimentos, materiales de evaporación, recubrimiento de película PVD, etc.

99.95% Purity Cr Chromium Sputtering Target Metal Chromium Target for PVD Film Coating

 

 

La microestructura puede ajustarse por nuestro proceso de producción de flexibilidad, para lograr el efecto deseado. Si los granos del objetivo de pulverización están alineados de manera uniforme, el usuario puede beneficiarse de tasas de erosión constantes y capas homogéneas. Las imágenes a continuación son dos micrografías de nuestro objetivo de desbrotar cromo, el tamaño promedio de grano<100μm.

Nuestro objetivo de esputo de cromo es la alta pureza, el beneficio más importante es que las películas posean un nivel excepcional de conductividad eléctrica y la formación de partículas minimizada durante el proceso de PVD. A continuación se presenta un Certificado de análisis para el objetivo de esputo de cromo 3N5.

Métodos analíticos:
1. Los elementos metálicos fueron analizados por GDMS e ICP-OES.
2. Elementos gaseosos analizados por LECO. 99.95% Purity Cr Chromium Sputtering Target Metal Chromium Target for PVD Film Coating

Aplicación: Objetivos de desbrotamiento de cromo

99.95% Purity Cr Chromium Sputtering Target Metal Chromium Target for PVD Film Coating

Otros objetivos relacionados con el espionaje

Objetivo de metal  Ni,al,Cu,V,Co,W,Mo,ta,Nb,Cr,ti,ZR,HF,mg,Fe,Zn,Pb,Sn,Bi,GA,GE,in,Si,C,B,Te y blancos de tierras raras
Objetivo de aleación Aleación de ni,Fe,Co,Cu,al y aleación especial  
Materiales de evaporación Ni,al,Cu,V,Co,W,Mo,ta,Nb,Cr,ti,ZR,HF,mg,Fe,Zn,Pb,Sn,Bi,GA,GE,in,Si,C,B,Te y etc
Objetivos cerámicos Óxido Ceramic, compuestos ceramicos objetivos.
  
Información de la empresa

 99.95% Purity Cr Chromium Sputtering Target Metal Chromium Target for PVD Film Coating

99.95% Purity Cr Chromium Sputtering Target Metal Chromium Target for PVD Film Coating

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PREGUNTAS FRECUENTES

 

1. ¿es usted compañía comercial o fabricante?
Xinkang: Somos un fabricante profesional especializado en este campo durante más de 10 años.

 

2: ¿Cuánto tiempo dura su entrega?
Xinkang: El envío puede hacerse en 5-7 días para el tamaño normal, o muestras, y 15-20 días para la cantidad de lote.  
 
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Xinkang: No, apoyamos las muestras.

 

4: ¿Cuál es su método de pago?
Xinkang: T/T de antemano, Paypal, Western Union y etc

 

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